Характеризация наноразмерных слоев гетерокомпозиций с применением цифровой обработки данных просвечивающей электронной микроскопии

1.    Ловыгин М. В., Боргардт Н. И., Бугаев А. С., Волков Р. Л., Зайбт М. Исследование структуры и состава напряженного эпитаксиального слоя в гетерокомпозиции InAlAs/GaAs(100) методами просвечивающей электронной микроскопии. Изв. вузов. Электроника. 2015;20(4):431–439. EDN: UDUYXT.

Lovygin M. V., Borgardt N. I., Bugaev A. S., Volkov R. L., Seibt M. Study of the structure and composition of the strained epitaxial layer in the InAlAs/GaAs(100) heterostructure by transmission electron microscopy. Semiconductors. 2016;50:1753–1758. https://doi.org/10.1134/S1063782616130066

2.    Feng Y., Huang Q., Zhuang Y., Sokolov A., Lemke S., Qi R. et al. Mo/Si lamellar multilayer gratings with high efficiency and enhanced resolution for the x-ray region of 1000–1700eV. Opt. Express. 2021;29(9):13416–13427. https://doi.org/10.1364/OE.422483

3.    Kumar S., Gupta A. Integrated circuit fabrication. Boca Raton, FL: CRC Press; 2021. 336 p.

4.    Kitui M., Mwamburi M. M., Gaitho F., Maghanda C. M. Optical properties of TiO₂ based multilayer thin films: Application to optical filters. International Journal of Thin Film Science and Technology. 2015;4(1):1.

5.    Ben Saddik K., Fernández-Garrido S., Volkov R., Grandal J., Borgardt N., García B. J. Growth modes and chemical-phase separation in GaP_1 − xN_x layers grown by chemical beam epitaxy on GaP/Si(001). J. Appl. Phys. 2023;134(17):175703. https://doi.org/10.1063/5.0173748

6.    Yang X., Li Ch., Wang J., Zhou B., Lin S., Xie Sh. et al. Investigation of the surface and interfacial properties of polycrystalline CdTe/monocrystalline Si structure. J. Electron. Mater. 2022;51(8):4378–4387. https://doi.org/10.1007/s11664-022-09682-9

7.    Martin P. M. (ed.). Handbook of deposition technologies for films and coatings: Science, applications and technology. Oxford: William Andrew; 2010. xviii, 912 p.

8.    Seshan K., Schepis D. (eds). Handbook of thin film deposition. 4th ed. Oxford: William Andrew; 2018. 470 p. https://doi.org/10.1016/C2016-0-03243-6

9.    Yakshin A. E., Louis E., Görts P. C., Maars E. L. G., Bijkerk F. Determination of the layered structure in Mo/Si multilayers by grazing incidence X-ray reflectometry. Physica B. 2000;283(1-3):143–148. https://doi.org/10.1016/S0921-4526(99)01909-2

10. Braun W. Applied RHEED: Reflection high-energy electron diffraction during crystal growth. Berlin: Springer-Verlag; 1999. ix, 220 p.

11. Goldstein J. I., Newbury D. E., Michael J. R., Ritchie N. W. M., Scott J. H. J., Joy D. C. Scanning electron microscopy and X-ray microanalysis. 4th ed. New York: Springer; 2017. xxiii, 550 p.

12. Vickerman J. C., Briggs D. (eds). ToF-SIMS: Materials analysis by mass spectrometry. 2nd ed. Charlton: IM Publ.; 2013. viii, 732 p.

13. Tompkins H. G., Irene E. A. (eds). Handbook of ellipsometry. Norwich, NY: William Andrew; 2005. xvi, 886 p.

14. Williams D. B., Carter C. B. Transmission electron microscopy. 2nd ed. New York: Springer; 2016. lxii, 775 p. https://doi.org/10.1007/978-0-387-76501-3

15. Волков Р. Л., Боргардт Н. И. Идентификация структуры наноразмерных слоев многослойных гетерокомпозиций методами просвечивающей электронной микроскопии. Изв. вузов. Электроника. 2023;28(6):711–726. https://doi.org/10.24151/1561-5405-2023-28-6-711-726. EDN: QGSIPY.

Volkov R. L., Borgardt N. I. Identification of the structure of nanoscale layers of multilayer heterocomposites using transmission electron microscopy. Semiconductors. 2023;57(1):1–10. https://doi.org/10.1134/S1063782623010098

16. Mayer J., Giannuzzi L. A., Kamino T., Michael J. TEM sample preparation and FIB-induced damage. MRS Bulletin. 2007;32(5):400–407. https://doi.org/10.1557/mrs2007.63

17. Velox software for transmission electron microscopy: version 3.7.0.872-b0a7ba3a2f. ThermoFisher Scientific. Available at: https://www.thermofisher.com/ru/ru/home/electron-microscopy/products/software-em-3d-vis/velox-softwa... (accessed: 06.10.2025).

18. MATLAB: version 9.11.0.1769968 (R2021b). MathWorks. Available at: https://www.mathworks.com/products/matlab.html (accessed: 06.10.2025).

19. Collins T. J. ImageJ for microscopy. BioTechniques. 2007;43(sup1):S25–S30. https://doi.org/10.2144/000112517

20. Mitchell D. R. G. DiffTools: Electron diffraction software tools for DigitalMicrograph. Microsc. Res. Tech. 2008;71(8):588–593. https://doi.org/10.1002/jemt.20591

21. Mitchell D. R. G., Van den Berg J. A. Development of an ellipse fitting method with which to analyse selected area electron diffraction patterns. Ultramicroscopy. 2016;160:140–145. https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2015.10.009

22. Mitchell D. R. G., Schaffer B. Scripting-customised microscopy tools for Digital Micrograph. Ultramicroscopy. 2005;103(4):319–332. https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2005.02.003

23. Wojdyr M. Fityk: A general-purpose peak fitting program. J. Appl. Cryst. 2010;43(5-1):1126–1128. https://doi.org/10.1107/S0021889810030499

24. ГОСТ Р 8.736–2011. Государственная система обеспечения единства измерений. Измерения прямые многократные. Методы обработки результатов измерений. Основные положения. М.: Стандартинформ; 2013. iii, 19 с.

GOST R 8.736–2011. State system for ensuring the uniformity of measurements. Multiple direct measurements. Methods of measurement results processing. Main principles: State system for ensuring the uniformity of measurements. Multiple direct measurements. Methods of measurement results processing. Main principles. Moscow: Standartinform Publ.; 2013. iii, 19 p. (In Russ.).

25. Гонсалес Р. С., Вудс Р. Е. Цифровая обработка изображений. Пер. с англ. Л. И. Рубанова, П. А. Чочиа. Изд. 3-е, испр. и доп. М.: Техносфера; 2012. 1104 с.

Gonzales R. C., Woods R. E. Digital image processing. 3rd ed. London: Pearson; 2007. 976 p.

26. Sternberg S. R. Biomedical image processing. Computer. 1983;16(1):22–34. https://doi.org/10.1109/MC.1983.1654163